真空烧结炉的用途及分类
真空烧结炉的用途及分类
真空烧结炉主要用于粉末冶金制品、金属注射成型制品、不锈钢基、硬质合金、超合金、高比重合金、陶瓷材料、磁性材料、钕铁硼等的烧结。
真空炉的分类主要有两种:
一种是以温度分为普通烧结炉(1300℃及以下),中温烧结炉(1300℃~1600℃)、高温烧结炉(1600℃~2400℃)。
另一种是以真空度的高低来划分,可分为低真空、高真空和超高真空烧结炉。
用途及特点:
真空烧结炉主要应用于特种陶瓷(碳化硅(SiSIC)、碳化硼、氮化硅以及氮化硅结合碳化硅等)、高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结,更适用于碳化硅(SiSIC)制品的重结晶烧成工艺,也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。
真空甩带炉采用中频电源加热原理,有效避免了电阻内热真空炉的高温绝缘问题,因此在2000℃~2400℃的温度段相比电阻炉的有较大的优势。
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