真空甩带炉的结构特点　　真空甩带炉是一种常用于半导体、光电子、新材料等领域的热处理设备，具有以下结构特点：　　1.炉体结构：真空甩带炉的炉体结构通常采用立式设计，由炉膛、耐热隔热层和外壳组成。炉膛内部通常采用高温合金材料或陶瓷材料制成，能够承受高温和真空环境。　　2.甩带机构：真空甩带炉中的主要部件是甩带机构。甩带机构由驱动装置、输送带和张紧装置组成。输送带采用耐高温的合金材料制成，并通过驱动装置带动输送带进行循环运动，以实现物料的连续输送和热处理。　　3.加热系统：真空甩带炉的加热系统通常采用电阻加热器、感应加热器或辐射加热器等方式。根据热处理要求，加热系统可提供各种加热方式和分区控制，以实现对物料的精确控温。　　4.真空系统：真空甩带炉的真空系统用于提供所需的真空环境。真空系统包括真空泵、真空计、气体冷凝器等设备，能够实现高真空或中真空处理。　　5.控制系统：真空甩带炉配备先进的控制系统，可对温度、气氛、输送速度、真空度等参数进行实时监控和调节。控制系统通常采用PLC、触摸屏等自动化设备，实现精确的热处理过程控制和数据记录。　　总体而言，真空甩带炉具有结构紧凑、操作方便、加热均匀、真空度高等特点。它可以实现对物料的连续处理和精确控温，广泛应用于高温热处理、石墨化、脱气、退火等工艺过程。但是，具体结构特点还会受到不同制造商的设计和技术水平的影响，因此在选择和使用真空甩带炉时，还应考虑到实际需求和设备的性能指标。

　　在使用真空甩带炉的时候，也会面临有些热处理工艺在真空炉上无法完成的问题，究其原因，大致有两个方面：一是真空炉生产厂家按照标准生产，虽然各项技术参数合格，但在生产的过程中没有***系统地去考虑热处理工艺问题，导致了炉子的参数和热处理工艺参数不匹配。二是真空热处理工艺过程存在缺陷，无法实现想要的结果。 　　所以真空甩带炉的一个关键问题，就是要有可靠的真空密封构造。为了保证真空炉的真空性能，炉体要采用气密焊接，同时在炉体上尽量少开或者不开孔，少采用或者避免采用动密封结构，以尽量减少真空泄露的机遇。安装在真空炉体上的部件、附件等如水冷电极、热电偶导出装置也都必须设计密封构造。 　　工作者对真空甩带炉做到更好的维护与保养,方法如下： 　　1、按照程序抽低真空：紧闭所有的真空阀门，启动机械泵，待其运行正常后(大约1-2 min)，打开通向炉体的低真空阀即上碟阀，预先对炉体抽低真空; 　　2、打开真空甩带炉下碟阀，对扩散泵进行抽气，当真空度达到15 Pa以下后，系统自动开启扩散泵进行预热，一般经过45 min左右扩散泵开始其作用，就可以关闭真空烧结炉上碟阀，同时开启主阻挡阀待真空度达到1.33×10Pa以上，才可以开启加热按钮对样品进行加热。